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        新聞詳情

        真空鍍膜機的具體操作步驟介紹

        日期:2024-01-11 18:23
        瀏覽次數:384
        摘要:
            真空鍍膜機是一種高科技設備,常用于制造領域中的高精密光學和電子元件。

        真空鍍膜機的具體操作步驟:

            將待處理的基板放置在真空鍍膜室內,通常采用夾具或支架固定。然后,關閉鍍膜室門并確保密封性良好,啟動真空泵,開始抽取氣體。在抽取氣體的同時,可以啟動加熱系統,根據需要調整溫度,以提供合適的鍍膜條件。

            當達到所需的真空度后,開始進行鍍膜操作。首先,打開相應的鍍膜源,將鍍膜材料加熱至適當溫度,使其蒸發或濺射出來。鍍膜材料的選擇取決于所需的鍍膜效果和要求。然后,將蒸發或濺射的材料沉積在基板表面上,形成薄膜層。在鍍膜過程中,可以根據需要進行多次沉積,以獲得所需的膜層厚度。

            鍍膜完畢后,關閉鍍膜源,停止加熱并關閉真空泵。等待真空鍍膜室內氣體恢復正常壓力后,打開室門,取出處理好的基板。此時,可以進行必要的清潔和檢查工作,確保鍍膜質量符合要求。

        滬公網安備 31011702004244號

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